【川崎】先端パワー半導体デバイスの研究開発 ※年休124日/土日祝休
■業務内容:研究開発センターにおいて、化合物半導体や次世代シリコンの先端パワー半導体デバイスの設計、プロセス開発、評価・解析等の業務を遂行します。
■やりがい・魅力:先端パワー半導体デバイス(化合物半導体(GaN)または次世代Siデバイス)の研究開発業務において、自らのアイディアをベースに最先端技術を創出していくことができ、技術者として非常にやりがいのある業務です。本業務を遂行するための最先端の半導体プロセス開発、デバイス試作が行えるクリーンルームや実験設備、各種評価、計算解析等の実験環境が整備されています。
※研究開発センターとソフトウェア技術センターが所在する小向事業所内に研究開発新棟(仮称)を新しく建設し、2024年度目途に両センターは新棟で執務する予定です。
■研究開発新棟での業務開始に際して:アクティビティ・ベースド・ワーキング(ABW)を導入し、専門分野の異なる研究者・技術者同士が偶然に隣り合わせたり、すれ違ったりすることで会話が生まれ、未来を語り合ったり、お客様の課題の解決方法を一緒に見つけたりなど、21世紀の研究所にふさわしいオープンな環境を実現します。